silisiumnitridprodusenter analyserer produktkunnskap

Silisiumnitrid - er et keramisk materiale som er viktig for å skape holdbare strukturer. Det er et veldig hardt, naturlig smørende stoff som består av atomer arrangert som krystaller. Den ruster ikke ved høye temperaturer og tåler også ekstrem varme og kalde temperaturer. Den kan varmes opp i luft til temperaturer over 1000 grader, og den går ikke i stykker selv om den raskt avkjøles og varmes opp igjen. Disse egenskapene gjør den nyttig for å lage motordeler som lagre, turbinblader, mekaniske tetningsringer og støpeformer. Det brukes også til å lage varmeoverflaten til noen motordeler fordi det er en dårlig varmeleder. Dette forbedrer ytelsen til dieselmotorer, sparer drivstoff og øker den termiske effektiviteten.



Silisiumnitrid keramiske materialer er også meget stabile ved høye temperaturer, brytes ikke ned når de utsettes for oksygen, og kan gjøres veldig store og tette. Silisiumnitrid er en sterkt bundet kovalent forbindelse og kan danne en oksidbeskyttende film i luft, så den er også veldig kjemisk stabil og brytes ikke ned ved temperaturer under 1200 grader. Den beskyttende filmen dannet ved 1200 ~ 1600 grader kan forhindre ytterligere oksidasjon. Det reagerer ikke med mange smeltede metaller og legeringer som aluminium, bly, tinn, sølv, messing, nikkel osv., men kan korroderes av smeltede væsker som magnesium, nikkel-kromlegering, rustfritt stål osv.


Keramiske materialer av silisiumnitrid kan brukes i høytemperaturtekniske komponenter, ildfaste materialer i metallurgisk industri, korrosjonsbestandige komponenter og tetningselementer i kjemisk industri, og kniver og skjæreverktøy i produksjonsindustrien.

Siden silisiumnitrid kan danne sterk binding med silisiumkarbid, alumina, thoriumdioksyd, bornitrid, etc., kan det brukes som bindemiddel og modifiseres i forskjellige proporsjoner.


Når silisiumnitridfilmen er avsatt av PECVD, kan den brukes som en antirefleksjonsfilm for å redusere lysrefleksjon. Under silisiumnitridfilmavsetningsprosessen kommer hydrogenatomer inn i silisiumnitridfilmen og på silisiumskiven, som spiller en rolle i defektpassivering. Forholdet mellom atomtall av silisiumnitrid og silisium her er ikke strengt tatt 4:3, men varierer innenfor et visst område avhengig av ulike prosessforhold, og ulike forhold tilsvarer ulike fysiske egenskaper til filmen.